摘要：
荷兰光刻机巨头ASML的CEO克里斯托弗·富凯（Christophe Fouquet）近日表示，尽管华为和中芯国际在半导体领域取得了显著进步，但与行... 荷兰光刻机巨头ASML的CEO克里斯托弗·富凯（Christophe Fouquet）近日表示，尽管华为和中芯国际在半导体领域取得了显著进步，但与行业内的领先企业如Intel、台积电和三星相比，仍然存在10到15年的技术差距。
富凯指出，由于美国对华实施的出口禁令，中国无法获得先进的EUV（极紫外）光刻机，这限制了中国芯片制造技术的发展。即便中国企业使用一流的DUV（深紫外）光刻机，也无法在工艺技术上与台积电等厂商相媲美。ASML及其合作伙伴花费了超过20年的时间，从基础研究到商用机器的完成，再到构建EUV生态系统。此外，美国正在向ASML施压，要求其停止在中国维护和维修DUV设备，但荷兰方面尚未同意这一要求。
中国公司目前是ASML的主要客户之一，ASML的2024年第三季度财报显示，中国占其销售额的47%，达到27.9亿欧元。
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