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农历新年伊始,全球半导体行业的目光再次聚焦中国。国际权威分析机构TechInsights在光威DDR5内存与致态TiPro9000固态硬盘的拆解中,首次捕捉到中国存储技术的里程碑式突破——长江存储的Xtacking4.0架构2yy层3D NAND芯片,以及长鑫存储的G4 DDR5颗粒正进入主流消费市场。这些进展不仅刷新了国产存储芯片的技术高度,更在全球供应链中激起了阵阵涟漪。
在NAND闪存领域,长江存储最新量产的232层3D TLC芯片展现出惊人的技术韧性。TechInsights实验室数据显示,该芯片采用独特的双晶圆键合技术,总栅极数达到294层,存储密度突破20Gb/mm²,创造了TLC类型产品的全球最高位密度纪录。值得注意的是,这项突破是在美国严格的技术封锁背景下实现的——长江存储通过自主改进的Xtacking4.0架构,绕开了对海外先进制造设备的依赖,将现有设备的工艺潜力发挥到极致。
DRAM领域的进展同样令人振奋。长鑫存储首次将18.5nm工艺的DDR5颗粒导入消费级产品,光威DDR5-6000内存条的性能测试显示其核心参数已接近国际主流水平。尽管TechInsights指出其工艺节点仍落后头部企业约三年,但对比五年前中国DRAM产业几乎空白的局面,这样的追赶速度已超出业界预期。更值得关注的是,长鑫存储的月产能已突破20万片晶圆,在成熟制程产品线上逐渐形成成本优势。
市场数据印证着技术突破的产业价值。2024年第一季度,国产存储芯片在全球市场的份额首次突破8%,其中DRAM细分领域占比达到10.1%。咨询机构预测,按照当前发展速度,中国存储厂商有望在2025年实现16%的市场份额,与美光等传统巨头的差距缩小至1个百分点。这种此消彼长的态势直接反映在资本市场——美光科技半年内市值蒸发四分之一,而长江存储关联企业武汉新芯的科创板IPO快速过会,募资重点投向12英寸晶圆产线升级。
国际产业链的微妙变化更值得玩味。三星、SK海力士近期不约而同调整了技术路线图,前者推迟QLC闪存扩产计划,后者加速向HBM高端存储转型。这种战略收缩与进攻并存的态势,显示出传统巨头对中国存储企业在中端市场冲击的忌惮。韩国半导体协会的报告坦承,中国厂商在128层以下NAND和DDR4领域的成本优势,正在重塑全球存储芯片的定价体系。
当然,技术追赶的道路依然漫长。在3D NAND领域,三星的236层产品和SK海力士即将量产的321层产品仍保持代际优势;DRAM方面,美光的1β工艺和三星的GDDR7技术尚未被超越。但中国存储产业展现出的创新弹性不容小觑——从量子存储实验室成果到存算一体芯片突破,多个技术路线的并行推进正在积蓄弯道超车的可能。正如TechInsights在报告结尾的点评:当创新开始挣脱设备依赖的枷锁,游戏规则或将迎来根本性改变。
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