本文作者:kris

三星V10芯片提前量产背后:中国存储技术首次反超输出

kris 2025-02-24 19:35:38 2
三星V10芯片提前量产背后:中国存储技术首次反超输出摘要: 全球半导体产业近期迎来标志性事件。韩国三星电子宣布与中国长江存储达成混合键合技术专利许可协议,其第十代V-NAND产品将采用这项由中国企业首创的封装...

全球半导体产业近期迎来标志性事件。韩国三星电子宣布与中国长江存储达成混合键合技术专利许可协议,其第十代V-NAND产品将采用这项由中国企业首创的封装技术。这一合作不仅关乎企业间的技术互补,更折射出存储芯片领域竞争格局的深层演变。

在3D NAND领域,堆叠层数突破400层后,传统COP结构面临物理极限。存储单元与控制电路的同片集成导致底层电路承受过大压力,直接影响芯片可靠性。长江存储研发的Xtacking技术将存储单元与外围电路分置于不同晶圆,通过无凸点混合键合实现垂直互联,有效解决了层数增加带来的结构稳定性问题。这种创新架构使得三星在开发430层V10产品时,能够突破技术瓶颈,将量产计划提前至2025年下半年。

三星V10芯片提前量产背后:中国存储技术首次反超输出

专利布局的复杂性成为推动合作的关键因素。自2016年起,长江存储通过自主研发与专利收购,在混合键合领域构建了严密的专利网络。行业分析显示,该技术超过70%的核心专利集中在长江存储、美国Xperi及台积电三家手中。三星技术团队评估发现,其自主开发的替代方案难以完全规避现有专利,持续的法律纠纷可能延误产品上市窗口。这种技术路径的依赖性,促使三星选择通过专利交叉许可化解风险。

产业竞争格局因此产生微妙变化。存储巨头SK海力士被曝正在同步推进类似谈判,其321层产品量产在即,但后续500层研发同样面临专利壁垒。市场调研机构TechInsights指出,中国企业首次在关键半导体技术领域成为专利授权方,这种角色转变打破了存储行业数十年来的技术单向流动模式。不过,三星仍保持技术整合优势,其V10产品在存储密度和能耗控制方面较长江存储同类产品领先约12-15个月。

三星V10芯片提前量产背后:中国存储技术首次反超输出

行业观察人士认为,这种竞合关系将成为新常态。随着3D NAND层数向500层迈进,技术融合趋势愈发明显。日本经济新闻分析指出,全球前五大存储厂商的专利交叉许可协议数量较五年前增长300%,技术共享正在替代单纯的技术封锁。对于消费者而言,这种技术流动加速了产品迭代,预计2026年主流SSD产品的单位容量价格将下降至当前水平的60%。

三星V10芯片提前量产背后:中国存储技术首次反超输出

在这场存储技术的军备竞赛中,中国企业从追赶者转变为技术输出方,标志着全球半导体产业格局进入深度调整期。不过,核心设备的国产化程度、专利池的持续创新能力,仍是决定这种角色转变能否持久的关键变量。正如国际半导体产业协会报告所言:"技术专利的价值,最终取决于其在下一代产品中的不可替代性。

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